低压等离子体系统BOB体育登陆网页

表面的低压等离子活化在工业上用于增加基材和粘合剂、涂料或油漆之间的结合强度。这种结合强度的增加是由于一种共价键的转变，即基材和粘合剂共享电子以创建一个分子键。

表面的低压等离子清洗是去除零件上的外来物质或污染的过程。这一清洗过程将材料从表面转化为气体。这类清洗的一个很好的例子就是碳氢化合物污染暴露在氧等离子体中的部件。固体烃将转化为CO和HO气体。这种气体将被抽离等离子体系统，留下表面清洁的部分。

表面的低压等离子体蚀刻是与掩模法或类似光刻胶的材料一起使用时去除大块材料或图案材料的过程。与溶剂型蚀刻方法相比，低压等离子体蚀刻的主要优点是高分辨率和成本降低，因为没有产生废物流。由于缺乏使用腐蚀性流体对腐蚀材料的机械操作，安全性水平也有所提高。

具有定向组件的低压等离子体蚀刻称为反应离子蚀刻(RIE)。RIE方法是在要蚀刻的零件表面施加电荷的过程。这种电荷与相反的电荷直接在待蚀刻的样品上加速蚀刻等离子体。这种刻蚀等离子体的定向加速在一个方向上增加了样品的刻蚀速率。这种定向刻蚀速率产生的刻蚀结构与墙壁更垂直。这些垂直的墙壁允许生产更小或更密集的特征相比，蚀刻特征没有定向过程。

低压等离子体沉积是在等离子体过程中，使用等离子体处理气体或汽化液体单体的混合物作为原料，在零件表面产生涂层或薄膜的过程。这一过程的优点是可以在与等离子活化过程相同的室中进行，而不会破坏真空。这种涂层工艺的另一个优点是，它可以作为一种干燥工艺进行，而不会产生含水废水流。

低压等离子体沉积也能产生低摩擦涂层。这种低摩擦涂层通常用于橡胶o形圈和密封圈的涂层，以便在制造过程中不损坏它们。这种低摩擦涂层还可以用于增加装配的难度或减少摩擦密封表面的磨损。