系统管理系统presión

集团774

我们的系统presión我们的系统vacío专门用于diseñados,我们的系统diseñados,我们的系统和我们的系统diseñados一样,我们的系统和我们的系统diseñados一样,我们的系统和我们的系统diseñados一样,我们的系统和我们的系统diseñados一样,我们的系统和我们的系统diseñados一样,我们的系统和我们的系统diseñados一样。

他的系统是presión最近的一个系统是modificación表面上的一个系统。包括德当serian la limpieza precisa de组件contaminados, la activacion等离子体运动•德•皮耶扎德plastico el grabado de材料organicos o inorganicos la deposicion等离子,el recubrimiento de巴哈friccion y el recubrimiento•德•皮耶扎德plastico con卡帕类似聚四氟乙烯(politetrafluoroetileno)。我们的系统是presión我们利用一个大的不同的工业系统来综合材料características工业材料的表面。

我们在巴哈的系统presión

在巴卡岛presión的等离子体系统中,在cámara和vacío的等离子体系统中有气体和气体前驱物的连续存在。在等离子体中,气体会激发等离子体。excitación的工作单位使用través气体的无线电传输。它是energía在与物质表面接触的过程中,气体等离子体的无线电频率达到cámara或vacío。他认识到más他继承了我们的事业,他的事业是向上级请示的,他的事业是向activación请示,他的事业是向上级请示的,他的事业是向activación请示,他的事业是向软件请示,他的事业是向等离子系统请示的。

我们的系统是presión我们的工作是这样的,这样的结果是一个理想的与我们的产品相匹配的过程,además de la investigación。

Folleto

Obtenga más información y选择一个tecnología等离子体

系统管理系统presión

等离子体清洗

毫微微版本1

控制箱:
宽310mm高330mm深420mm

室:
Ø 3.9英寸,L 10.9英寸

室体积:
2

天然气供应:
1气路通过针阀

发电机:
1个人电脑。40千赫
(可选:13.56 MHz或2.45 GHz)

控制:
半自动

等离子体清洗

纳米版本3

控制箱:
W 560mm H 600mm D 600mm

室:
Ø 10.5英寸,L 16.5英寸

室体积:
24

天然气供应:
2 .气路通过针阀

发电机:
1个人电脑。40千赫
(可选:13.56 MHz或2.45 GHz)

控制:
半自动

等离子体激活

利乐30 PCCE

控制箱:
W 600mm H 1700mm D 800mm

室:
宽12英寸x高11.8英寸x深14.6英寸

室体积:
30.

天然气供应:
质量流量控制器

发电机:
1个人电脑。40千赫
(可选:13.56 MHz或2.45 GHz)

控制:
触摸屏

等离子体设

特殊的利乐15-LF-PC

控制箱:
W 600mm H 1700mm D 800mm

室体积:
15

天然气供应:
质量流量控制器

发电机:
1个人电脑。40千赫
(可选:13.56 MHz或2.45 GHz)

控制:
个人电脑

等离子体刻蚀

特殊四575 -如果电脑

控制箱:
W 600mm H 2100 mm D 800mm

室体积:
575

天然气供应:
质量流量控制器

发电机:
1个人电脑。40千赫
(可选:13.56 MHz或2.45 GHz)

控制:
个人电脑

PDMS等离子治疗

阿版本3

控制箱:
W 425毫米H 275毫米D 450毫米

室:
Ø 8.3英寸,l11.8英寸

室体积:
10.5

天然气供应:
质量流量控制器

发电机:
1个人电脑。40千赫
(可选:13.56 MHz)

控制:
触摸屏

Aplicaciones de Plasma de Baja Presión

Activación por plasma de baja presión

这是activación,这是下丘脑presión的血浆这是工业上的表面效用这是用于治疗unión的基础材料和粘接剂,以及治疗。这是unión的一部分,这是unión的一部分,基底材料和粘接剂比较电子对分子的缠绕。

plasma_activation

Limpieza por plasma de baja presión

下面是等离子体presión表面是材料的过程extraños和contaminación一个饼。这是一种消除气体表面转化物质的方法。我们不知道该去哪里sería我们可以去contaminación我们可以去oxígeno。El hidrocarburo sólido se convertiría en monóxido de carbono (CO) y radical hidroxilo (HO)。气体bombearía在等离子体系统中dejaría在等离子体表面。

plasma_cleaning

Grabado por plasma de baja presión

从表面上看,我们可以看到presión在排除材料的过程中,我们可以看到método在电阻材料的过程中,我们可以看到máscara。zh comparación con los métodos grabado a base de dis溶化,grabado a principal ventaja por a baja presión con de gas proces es a alta resolución y reducción as a ascido dedo a falta deamp;这是总则的题目。También我的市长nivel de seguridad dedo a la falta de manipulación mecánica de los materiales de grabado con fluidos腐蚀。

plasma_etching

Grabado ionico reactivo

在巴哈的grabado por (presión)的等离子体中有一个直接的成分grabado (iónico reactivo)。这是método这是我们的工作这是我们的工作的表面。我想要的是我想要的,我想要的是我想要的grabará。它aceleración我想要一个人的生活,我想要一个人的生活dirección。发展的方向产生发展的方向más垂直的方向。producción的características más pequeñas o más密度是垂直的,comparación垂直于地堑。

thierry-plasma-systems_Femto-version-6

给巴哈的血浆充电presión

这是deposición,下面的等离子体presión这是一般的过程这是表面的过程这是气体的过程这是等离子体过程monómero líquido蒸发是等离子体过程的初始物质。这个过程是这样的,这个过程是这样的cámara这个过程是这样的activación等离子体,是这样的vacío。除此之外,还有一个学习的过程就是在这个过程中认识到这个过程generación这是一个非常好的过程。

蒂埃里-等离子体- systems_special -四- 120 -如果- pc

Recubrimiento de baja fricción

La deposición下一个岛presión también是下一个岛的生产者fricción。在dañarlos中fricción se utility comúnmente在dañarlos中juntas tóricas y在dañarlos中elastoméricos在dañarlos中选择或操纵竖线或竖线。Además,这是一个可以利用的地方,这是一个可以利用的地方,这是一个可以利用的地方。

low_friction_coating

Cotizacion

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