Grabado ionico reactivo

RIE-Image

grabado iónico反应性(RIE)是一种grabado过程,当等离子体在grabado的另一边形成时,就会诱发一种直接的grabado过程。它可以直接获得许可tamaños de las características de grabado sean significatiativamente más pequeños,因为可以利用comúnmente在半导体工业。

grabado的原理iónico反应

grabado iónico反应性(RIE)是一种等离子体的grabado过程,它利用了一种直接的grabado过程。这是一种抓取的过程iónico反应(RIE)在比萨饼中生产一种奶酪。这个蛋糕está蛋糕,这个蛋糕的组成部分是一个蛋糕的组成部分,这个结果是colisión这个蛋糕的方向的组成部分。这样的结果是有方向性的,所以允许tamaño的características很多más pequeño。El grabado iónico reactivo (RIE) también允许一个los fabricantes grabar a mayor velocidad que los métodos de grabado tradicionales。

ion_principles

电子书

对血浆进行抓抓

工业和grabado iónico反应

  • Industria de dispositivos médicos:grabado iónico反应性(RIE)对物质的利用能使grabado难以实现。
  • 工业德半导体:grabado iónico反应(RIE)在电路集成的fabricación上应用。
  • 工业de传感器:grabado iónico反应性(RIE)允许还原tamaño的características和grabado的加工材料。
  • 工业太阳能:获取métodos estándares (métodos estándares) iónico反应性(RIE)促进fabricación (métodos estándares)材料exóticos (exóticos)然后difíciles (métodos estándares)过程中获取través (métodos estándares)

系统iónico反应流行

反应离子刻蚀

毫微微版本6

控制箱:
宽560mm宽560mm深420mm

室:
Ø 3.9英寸,L 10.9英寸

室体积:
2

天然气供应:
1气路通过针阀

发电机:
1个人电脑。40千赫
(可选:13.56 MHz或2.45 GHz)

控制:
半自动

等离子体涂层

Pico Version 7

控制箱:
W 600mm H 1700mm D 800mm

室:
Ø 5.9英寸,L 12.6英寸

室体积:
5

天然气供应:
质量流量控制器

发电机:
1个人电脑。40千赫
(可选:13.56 MHz或2.45 GHz)

控制:
个人电脑

等离子体涂层

利乐100

控制箱:
W 600mm H 1700mm D 800mm

室:
宽15.8" x高15.8" x深24.6"

室体积:
One hundred.

天然气供应:
质量流量控制器

发电机:
1个人电脑。40千赫
(可选:13.56 MHz或2.45 GHz)

控制:
个人电脑

奥登加más información在等离子体中工作的人更高

Baidu
map