aplicaciones del等离子体

ActivaciónPor等离子体

在血浆活性试验中，表面无反应、无腐殖质、表面活性剂、表面活性剂和优化粘接剂的主要腐殖质改良剂。粘合剂的使用有助于提高产品的稳定性。房地产开发商的法布里卡森程序，优化和控制。在这一过程中，所有的剃须刀都包括了实际工业用电材料的市长。

Unióndepdmsymicrofluídica

联合国重要的脊髓灰质炎预防措施（PDMS）的血浆研究中心，研究用于工业的微流体系统的疾病和生产。这种处置产生了一种冲突，特别是PDMS adherido al-vidrio、一种símismo或一种otros polímeros。联合国PDMS第184号《道尔加德法案》规定了个人的权利和结构。微流体处理设备的制造者利用PDMS部件的等离子技术、硅（Si）元件的处理、硅（Si）的处理。

Limpieza por血浆

La Limpieza Por Plasma Es Es El Proceso de Eliminar污染物No Deseados de Una Superficie Mediante LaGasificaciónOel Cambio de la Fase delMeterthereño（desólidoolíquido）一个gaseoso。Luego，Este Gas Se EverininadelÁreade la Superficie Y da Como ResultAdo联合国物质利率。

La Limpieza Por PlasmaEstáEortioMeTáVeraInionesdeFablicaCión，Que Helluyen Limpieza Por等离子（Para Eliminar MaterialesOrgánicos），Limpieza Por等离子（Inorgánicosaregánicos），Limpieza Por PlasmaAntiséptica（ParaInginar ElementosBiológicos），Limpieza Por血浆超薄（Para Mejorar Discositivos AerooSpaciales YMicromecánicos）Y Desengrasado。

La Limpieza Por Plasma Silvina La Necesidad de Utilizentes YOtrosMétodosdeImpiezaQue Producen Compuestosorgánicosvolátrátrátiles（Cov）Para Lograr联合国Proceso deFabricaCiónMásLimpioy Seguro。

refubrimiento por等离子体

EL Recubrimiento Por Plasma ES UNA APLICACIONON Que Uteriza联合国ProceSo Aditivo Que Modifica Las提议De La Superficie de Un Material。Gracias AEsteMétododeTratamiento，Las Superficies Pueden VolverseHidrofóbicas，Hidrófilas，抵抗Los Rayones o A LaCorrosión，Metalizadas o Adquirir Muchas Otras Terminaciones SuperficesQuímicasO分子。

下弗里奇翁酒店

下弗里奇河的再利用是一个适用于材料储存的过程，即血浆和正常附着物表面的再利用过程。因此，我们需要在产品的制造和销售过程中，为消费者提供便利。这是一个许可证程序，用于食品振动和生产设备自动化系统。

grabado por等离子体

El Grabado Por Plasma Es Es El Proceso de Eliminar Materiale de Una Superficie Mediante LaBianificiónOELCambiode la Fase del Imagen。Luego，Este Gas Se EveriNinaDelÁrea将军De La Superficie。El Grabado Por等离子描述UN Salkio Grupo de Operaciones Que包含eL Grabado de Servicio Corlosivo o el grabadofísico。

Grabadoiónico反应（RIE）

如果你不知道，你的反应（RIE）和血浆利用率是多少，那么你就没有儿子了。格拉巴多等离子体是一种新的等离子体，它是一种新的等离子体，它是一种新的等离子体。在洛萨托莫斯的格拉巴多地区，我们需要一个快速发展的国家。对于垂直于超表面的材料，其抓取速度具有重要意义；对于平行于超表面的材料，其抓取速度具有重要意义。

en el grabadoiónico反垃圾（Rie），el proceso de esta velocidad diferencial o velocidad de grabado差异意义意义que puede tener menos distancia entre lascaracterísticasgrabadas。Esto Permite Que ElTabañodeLasCaracterísticasProducidas SE Reduzca Y La Densidad de LasCaracterísticasHumente。el grabadoiónico反垃圾植物（RIE）SEURIZAComúnmenteENLOSSISTEMAS半导体Y微电器（MEMS）。